抽象的な

Photoreactivity Of Epoxy Resins

Cheng-Siang Lee, Shiliang Fan, Zoubida Seghier, Freddy Y.C.Boey, Marc J.M.Abadie


Work had been done to establish the photoreactivity of epoxy resins with respect to the chemical structure of their monomers. Two epoxymonomers had been choosen, both having two epoxy functional groups at each terminal ends. The difference between these two epoxy monomers being the length separating the two functional groups called the “space” group. Results show that the photochemical reactivity is influenced by the chemical structures of monomers, and thus their physical-chemical properties.


免責事項: この要約は人工知能ツールを使用して翻訳されており、まだレビューまたは確認されていません

インデックス付き

  • キャス
  • Google スカラー
  • Jゲートを開く
  • 中国国家知識基盤 (CNKI)
  • サイテファクター
  • コスモスIF
  • ミアル
  • 秘密検索エンジン研究所
  • ユーロパブ
  • バルセロナ大学
  • ICMJE

もっと見る

ジャーナルISSN

ジャーナル h-インデックス

Flyer

オープンアクセスジャーナル